Cканирующий электронный микроскоп LEO — 1455 VP с приставками

энергодисперсионный безазотный спектрометр Aztec Energy Advanced X-Max 80;
четырехсекционный детектор отраженных электронов 4QBSE;
система дифракции отраженных электронов HKL EBSD Premium System Channel 5

Производитель: LEO — 1455 VP, 4QBSE — Сarl Zeiss,  Aztec Energy Advanced X-Max 80, HKL EBSD Premium System Channel 5 — Oxford Instruments.

Страна: LEO — 1455 VP, 4QBSE —  Германия; Aztec Energy Advanced X-Max 80, HKL EBSD Premium System Channel 5 — Англия.

Год выпуска (модернизации): LEO – 1455 VP — 2001; 4QBSE — 2007; HKL EBSD Premium System Channel 5 — 2008; Aztec Energy Advanced X-Max 80 — 2014.

Назначение:

• LEO – 1455 VP — исследование морфологии поверхности проводящих и непроводящих материалов;
• Aztec Energy Advanced X–Max 80 — определение качественного и количественного элементного состава материалов как по всей поверхности, так и в точке или вдоль выделенной линии. Построение карт элементного состава;
• 4QBSE — получение изображения поверхности материала в фазовом контрасте;
• HKL EBSD Premium System Channel 5 — определение фазового состава, ориентации кристаллитов, состояния границ зерен.

Основные технические характеристики:

• LEO – 1455 VP: увеличение от 32 до 300000 крат; разрешение в высоковакуумном режиме для проводящих образцов 3,5 нм, в низковакуумном режиме для непроводящих образцов – 5 нм; максимальный размер образца 100 мм.
• Aztec Energy Advanced X-Max 80: диапазон элементов от Bе до Pu; пределы измеряемых концентраций 0,1-100%; разрешение по энергии по Mn K_α 123 эВ.
• 4QBSE: пространственное разрешение ограничено разрешением микроскопа; разрешение по атомному номеру лучше, чем 0,1 Z.
• HKL EBSD Premium System Channel 5: разрешение по глубине 5 нм; латеральное разрешение 500 нм; угловое разрешение 0,11 град; время получения одной картины Кикучи не более 1 с; анализируемый диапазон симметрии кристаллов – все группы Лауэ.

 

Сканирующий зондовый микроскоп SOLVER P47 PRO

Производитель: НТ-МДТ

Страна: Россия

Год выпуска (модернизации): 2005, в 2013 г. закуплен дополнительный сканер с областью сканирования 100х100 мкм

Назначение: для исследования топографии и локальных магнитных, механических и электрических свойств поверхности материалов, включая биологические объекты

Основные технические характеристики: Максимальный размер области сканирования – 100х100 мкм; Размер образца до 40х40х10 мм; Разрешение: уровень шума XY 0,2 нм, Z – 0,02 нм.; Реализованы различные методы измерений и воздействий: туннельная микроскопия, атомно-силовая микроскопия (контактная и полуконтактная), электросиловая микроскопия (статическая и динамическая), магнитносиловая микроскопия, режим измерения жесткости и латеральных сил поверхности, нанолитография, спектроскопия.

Динамический микротвердомер SHIMADZU DUH-202

Производитель: Shimadzu Corporation

Страна: Япония

Год выпуска (модернизации): 1999

Назначение: для измерения динамической твердости и микротвердости тонких пленок и покрытий.

Основные технические характеристики: Инденторы Берковича и Виккерса; Точность нагружения 1% от заданной нагрузки; Точность измерения глубины 1 нм; Величина нагрузки от 0,1 мН до 1961 мН; Глубина индентирования до 10 мкм.

Фурье-спектрометр VERTEX 70

Производитель: BRUKER

Страна: Германия

Год выпуска (модернизации): 2005

Назначение: для регистрации инфракрасных спектров различных веществ

Основные технические характеристики: cпектральный диапазон 400-5000 см^-1; спектральное разрешение лучше, чем 0.5 см^-1 (с аподизацией); фотометрическая точность лучше, чем 0,1 %.

Лаборатория клеточных технологий

В составе: СО₂ инкубатор HERACELL 150 THERMO; центрифуга лабораторная MULTIFUGE 1L THERMO; микроскоп OLYMPUS BX51 с манипулятором SUTTER МР-225; комплекс для микроэлектродных исследований клеток

Год выпуска (модернизации): 2007

Назначение: ведение культур клеточных линий, исследование клеток методом patch-clamp

Основные технические характеристики: Степень очистки воздуха: не хуже 99,99% (0,3 мкм).; Инкубация: t= 5-50 ^oC, CO₂= 0-20 %, O₂= 3-90 %, Hum= 60-95 % rH.; Взвешивание: 0-1 кг, точность 0,1 мкг.; Скорость центрифугирования: 15000 оборотов.; Манипулирование: не хуже 2 мкм.; Фиксация тока: не хуже 10 мкА.; Фиксация потенциала: не хуже 1 мВ; Внутриклеточный потенциал: 0-10 кГц, 0-1 В, шум: <5 мкВ.; Внеклеточный потенциал: 0-10 кГц, 0-10 мВ, шум: <5 мкВ.

Лабораторный комплекс CFHF на базе рефрижератора замкнутого цикла

Производитель: Cryogenics Ltd

Страна: Англия

Год выпуска (модернизации): 2006 (в 2012 г. заменена головка криокуллера и обновлено программное обеспечение, в 2014 г. доукомплектован вибрационным магнетометром, измерительным зондом, насосом для прокачки рабочего газа)

Назначение: для автоматизированного измерения электрических свойств на постоянном и переменном токе, магнитных свойств, а также термоэдс и теплопроводности различных материалов

Основные технические характеристики: Диапазон температур 1,6 – 300 К.; Магнитные поля до 8 Тл.; Область частот от 20 Гц до 30 МГц.; Область частот колебаний образца – 1 – 100 Гц; Чувствительность по магнитному моменту – 10^-6 эме; Точность и воспроизводимость – 0,5 %; Амплитуда переменного поля – до 5 мT при 10 Гц

Комплекс оборудования для пробоподготовки

В составе: шлифовально-полировальный станок TEGRAPOL-25; отрезной станок MINITOM; установка для электролитического утонения TENUPOL-5.

Производитель: Struers A/S

Страна: Дания

Год выпуска (модернизации): 2006

Назначение: для резки, шлифовки, полировки, электролитического утонения образцов; TEGRAPOL-25: шлифование и полировка образцов для растровой электронной микроскопии; TENUPOL-5: электролитическое утонение материалов для просвечивающей электронной микроскопии; MINITOM: резка образцов.

Основные технические характеристики: MINITOM: скорость отрезания 110-420 об/мин, точность 0,01 мм. TEGRAPOL-25: скорость вращения полировального диска 40-600 об/мин, давление 10-400 Н. TENUPOL-5: одно- и двухстороннее утонение, диаметр образца 3 мм.

Установка ионного утонения, полировки, очистки PECS 682

Производитель: Gatan

Страна: США

Год выпуска (модернизации): 2009

Назначение: препарирование образцов для растровой и просвечивающей электронной микроскопии

Основные технические характеристики: Энергия ионов от 1 до 10 кэВ; плотность тока до 10 мА/см²; диаметр ионного пучка до 5 мм; скорость утонения для W 3 мкм/ч; угол наклона образца 0-90 град.

Спектрально-аналитический комплекс на основе сканирующего конфокального микроскопа Nanofinder

Производитель: СП «ЛОТИС ТИИ»

Страна: Беларусь

Год выпуска: 2011 (в 2012 г. доукомплектован оптической криогенной системой, в 2013 г. – системой вакуумирования и теплоотвода)

Назначение прибора: Спектрально-аналитический комплекс на основе сканирующего конфокального микроскопа Nanofinder обеспечивает возможность проведения рамановской спектроскопии и люминесцентного анализа с пространственным разрешением 200 нм (500 нм по глубине прозрачного образца) и спектральным разрешением 0.01 нм.

Основные технические характеристики:

• Виброустойчивый стол;
• Лазерный модуль: 4 лазера с автоматической коммутацией и длинами волн генерации 355 нм, 473 нм, 532 нм, 785 нм.;
• Оптико-механический модуль: поляризатор – призма Глан-Тейлора; анализатор – призма Глан-Тейлора с автоматическим управлением ввода-вывода в канал регистрации спектра;
• Модуль сканирования: диапазон сканирования по X-Y-Z – не менее 100×100×25 мкм, соответственно; пространственное разрешение по X-Y не хуже 200 нм, пространственное разрешение по Z не хуже 500 нм.;
• Оптический микроскоп: прямой и инвертированный, объективы: ×5, ×10, ×50, ×100, с масляной иммерсией ×100;
• Спектрограф: рабочий спектральный диапазон 330 – 1100 нм; спектральное разрешение: до 0.1 нм для нарезной решетки и до 0.01 нм для Эшелле решетки; регулируемая щель: от 0 до 2 мм с шагом 0.5 мкм.;
• Система регистрации Рамановского и люминесцентного излучения: цифровая ПЗС-камера: температурная стабилизация до -80 °С, яркостное разрешение 16-бит; фотоэлектронный умножитель: рабочий спектральный диапазон не менее 300–900 нм, время нарастания выходного сигнала не более 2.5 нс, время отклика не более 25 нс, световая чувствительность анода не менее 2500 А/лм.

Автоматизированная вакуумная установка для ионно-плазменного нанесения нанокомпозитных покрытий и тонких пленок HHV Auto 500

Производитель: Hind High Vacuum Company Private Limited (HHV)

Страна: Индия

Год выпуска (модернизации): 2013

Назначение: для ионно-плазменного нанесения нанокомпозитных покрытий и тонких пленок

Основные технические характеристики

• вакуумная технологическая камера: диаметр 500 мм, высота 600 мм, материал камеры – нержавеющая сталь (электрополировка внутренней поверхности);
• система сухой (безмасляной) вакуумной откачки, обеспечивающая степень вакуума в технологической камере 5*10^-7 Торр;
• сухой спиральный насос (скорость откачки не менее 35 м³/ч);
  турбомолекулярный насос (скорость откачки не менее 1500 л/с);
  измерение давления в камере широкодиапазонным вакуумметром в диапазоне 1 атм – 1х10^-8 Торр.

• два магнетронных иcточника на постоянном и переменном токе: магнетронный источник с RF блоком питания (диаметр мишени 75 мм, водяное охлаждение, источник питания 600 Вт, 13.56 МГц, цифровая система управления), магнетронный источник с DC блоком питания (мощность 1.5 кВт, диаметр мишени 75 мм, водяное охлаждение);
• система напуска технологических газов: аргон, азот,
  регулировка с помощью цифровых регуляторов расхода;
• два резистивных испарителя;
• вращающийся подложкодержатель

Спектрофотометр Photon RT

Производитель: ЭссентОптикс

Страна: Беларусь

Год выпуска (модернизации): 2013

Назначение: для измерения спектральных характеристик отражения, пропускания и оптической плотности плоских оптических деталей и покрытий в поляризованном свете.

Основные технические характеристики: Спектральный диапазон, нм: 190-3000.; Спектральное разрешение, нм: 190-1000 нм (решетка 600 штр/мм) -1,8; 1000-3000 нм (решетка 300 штр/мм) -3,6.; Минимальный шаг сканирования, нм: 0,5.; Воспроизводимость длины волны, нм: 0,12.; Источник излучения: лампа галогенная 12 В, 20 Вт; лампа дейтериевая 35 Вт.; Шаг перестройки угла поворота столика: 0,1^о; Шаг перестройки угла поворота фотоприемника: 0,1^о; Точность установки углов поворота столика образцов: 0,05^о; Угол расходимости луча: 2^о.

Установка УИПТ-001

Производитель: БГУ, г. Минск

Страна: Беларусь

Год выпуска: 2008

Назначение: для исследования трибологических свойств поверхностей различных материалов путем получения и последующего сохранения на цифровом носителе зависимости коэффициента трения от пути трения. Области использования прибора – трибология, физика тонких пленок, материаловедение.

Основные технические характеристики:

• УИПТ обеспечивает возвратно-поступательное движение образца с заданной амплитудой и скоростью, измеряя при этом коэффициент трения между индентором и поверхностью образца.
• Диапазон возможных размеров образца: минимальный размер образца 6х4х1 мм, максимальный размер образца 20х35х8 мм.
• Характеристики индентора: тип индентора – сферический, радиус закругления индентора – от 0,75 мм до 3 мм.
• Диапазон параметров эксперимента: нагрузка на индентор – от 0,01 Н до 0,2 Н; скорость перемещения образца – от 0,04 мм/с до 4 мм/с, длина трека износа – от 5 мм до 20 мм.