Характеристики оборудования БМЦ

Cканирующий электронный микроскоп LEO — 1455 VP с приставками:

энергодисперсионный безазотный спектрометр Aztec Energy Advanced X-Max 80;
четырехсекционный детектор отраженных электронов 4QBSE;
система дифракции отраженных электронов HKL EBSD Premium System Channel 5

Производитель: LEO — 1455 VP- Сarl Zeiss,  EDX –Ronteg,  4QBSE — Сarl Zeiss,  HKL EBSD Premium System Channel 5 — Oxford Instruments.

Страна: LEO — 1455 VP- Германия; EDX – Германия; 4QBSE —  Германия; HKL EBSD Premium System Channel 5 — Англия.

Год выпуска (модернизации): 2001 (в 2007 г. модернизирован детектором отраженных электронов, в 2008 г. – системой дифракции отраженных электронов, в 2014 г. – безазотным спектрометром)

Назначение:

  •  LEO — 1455 VP — исследование морфологии поверхности проводящих и непроводящих материалов;
  • EDX — определение качественного и количественного элементного состава материалов как по всей поверхности, так и в точке или вдоль выделенной линии. Построение карт элементного состава.
  • 4QBSE — получение изображения поверхности материала в фазовом контрасте;
  • HKL EBSD Premium System Channel 5 — для измерения микроструктур и микротекстур, ориентации кристаллитов, свойств границ зерен, для идентификации неизвестных фаз

Основные технические характеристики:

  • увеличение от 32 до 300 000 крат;
  • разрешение в высоковакуумном режиме для проводящих образцов 3,5 нм, в низковакуумном режиме для непроводящих образцов – 5 нм;
  • максимальный размер образца 100 мм;
  • диапазон анализируемых элементов от Bе до Pu;
  • предел измеряемых концентраций 0,1-100%;
  • разрешение по энергии по Mn Kα 123 эВ;
  • время получения одной картины Кикучи не более 1 с;
  • анализируемый диапазон симметрии кристаллов все группы Лауэ.

 

Сканирующий зондовый микроскоп SOLVER P47 PRO

solver-p47-proПроизводитель: НТ-МДТ

Страна: Россия

Год выпуска (модернизации): 2005, в 2013 г. закуплен дополнительный сканер с областью сканирования 100х100 мкм

Назначение: для исследования топографии и локальных магнитных, механических и электрических свойств поверхности материалов, включая биологические объекты

Основные технические характеристики:

  1. Максимальный размер области сканирования – 100х100 мкм;
  2. Размер образца до 40х40х10 мм;
  3. Разрешение: уровень шума XY 0,2 нм, Z — 0,02 нм.
  4. Реализованы различные методы измерений и воздействий: туннельная микроскопия, атомно-силовая микроскопия (контактная и полуконтактная), электросиловая микроскопия (статическая и динамическая), магнитносиловая микроскопия, режим измерения жесткости и латеральных сил поверхности, нанолитография, спектроскопия.

.

Рентгеновский дифрактометр ДРОН 4.13

dron-4.13Производитель: ОАО НПП «Буревестник»

Страна: Россия

Год выпуска (модернизации): 1992 (в 2006 г. модернизирован системой компьютерного управления).

Назначение:  для исследования фазового состава и кристаллической структуры материалов, определения параметров решетки, выявления различных типов дефектов, анализа напряженного и текстурированного состояния.

Основные технические характеристики:

  1. Диапазон углов 2 Тета от 0 до 164 град;
  2. Скорость съемки дифрактограмм от 1/32 град/мин до 16 град/мин в Cu и Co-излучении;
  3. Размер образца до 20 мм в диаметре;
  4. Пакет программ по обработке полученных данных.

.

Динамический микротвердомер SHIMADZU DUH-202

shimadzu-duh-202Производитель: Shimadzu Corporation

Страна: Япония

Год выпуска (модернизации): 1999

Назначение: для измерения динамической твердости и микротвердости тонких пленок и покрытий.

Основные технические характеристики:

  1. Инденторы Берковича и Виккерса;
  2. Точность нагружения 1% от заданной нагрузки;
  3. Точность измерения глубины 1 нм;
  4. Величина нагрузки от 0,1 мН до 1961 мН;
  5. Глубина индентирования до 10 мкм.

.

Фурье-спектрометр VERTEX 70

vertex-70Производитель: BRUKER

Страна: Германия

Год выпуска (модернизации): 2005

Назначение: для регистрации инфракрасных спектров различных веществ

Основные технические характеристики:

  1. Спектральный диапазон 400-5000 см-1;
  2. спектральное разрешение лучше, чем 0.5 см-1 (с аподизацией);
  3. фотометрическая точность лучше, чем 0,1 %.

.

Лаборатория клеточных технологий

в составе: СО2 инкубатор HERACELL 150 THERMO; центрифуга лабораторная MULTIFUGE 1L THERMO; микроскоп OLYMPUS BX51 с манипулятором SUTTER МР-225; комплекс для микроэлектродных исследований клеток

Год выпуска (модернизации): 2007

Назначение: ведение культур клеточных линий, исследование клеток методом patch-clamp

Основные технические характеристики:

  1. Степень очистки воздуха: не хуже 99,99% (0,3 мкм).
  2. Инкубация: t= 5-50 oC, CO2= 0-20 %, O2= 3-90 %, Hum= 60-95 % rH.
  3. Взвешивание: 0-1 кг, точность 0,1 мкг.
  4. Скорость центрифугирования: 15000 оборотов.
  5. Манипулирование: не хуже 2 мкм.
  6. Фиксация тока: не хуже 10 мкА.
  7. Фиксация потенциала: не хуже 1 мВ
  8. Внутриклеточный потенциал: 0-10 кГц, 0-1 В, шум: <5 мкВ.
  9. Внеклеточный потенциал: 0-10 кГц, 0-10 мВ, шум: <5 мкВ.

.

Лабораторный комплекс CFHF на базе рефрижератора замкнутого цикла

cfhfПроизводитель: Cryogenics Ltd

Страна: Англия

Год выпуска (модернизации): 2006 (в 2012 г. заменена головка криокуллера и обновлено программное обеспечение, в 2014 г. доукомплектован вибрационным магнетометром, измерительным зондом, насосом для прокачки рабочего газа)

Назначение: для автоматизированного измерения электрических свойств на постоянном и переменном токе, магнитных свойств, а также термоэдс и теплопроводности различных материалов

Основные технические характеристики:

  1. Диапазон температур 1,6 – 300 К.
  2. Магнитные поля до 8 Тл.
  3. Область частот от 20 Гц до 30 МГц.
  4. Область частот колебаний образца — 1 – 100 Гц;
  5. Чувствительность по магнитному моменту — 10-6 эме;
  6. Точность и воспроизводимость — 0,5 %;
  7. Амплитуда переменного поля — до 5 мT при 10 Гц

.

Комплекс оборудования для пробоподготовки

в составе: шлифовально-полировальный станок TEGRAPOL-25; отрезной станок MINITOM; установка для электролитического утонения TENUPOL-5

Производитель: Struers A/S

Страна: Дания

Год выпуска (модернизации): 2006

Назначение: для резки, шлифовки, полировки, электролитического утонения образцов.

TEGRAPOL-25: шлифование и полировка образцов для растровой электронной микроскопии.

TENUPOL-5: электролитическое утонение материалов для просвечивающей электронной микроскопии.

MINITOM: резка образцов

 

Основные технические характеристики:


MINITOM
: скорость отрезания 110-420 об/мин, точность 0,01 мм.


TEGRAPOL-25
: скорость вращения полировального диска 40-600 об/мин, давление 10-400 Н.


TENUPOL-5
: одно- и двухстороннее утонение, диаметр образца 3 мм.

.

Пикосекундный комплекс на базе лазера LS-2151

ls-2151Производитель: СП «ЛОТИС-ТИИ»

Страна: Беларусь

Год выпуска (модернизации): 2008

Назначение: для динамической голографии

.

Основные технические характеристики:

  1. Длина волны генерации 1064, 532 нм.
  2. Длительность импульса в режиме мод. добротности 10-15 нс,
  3. в режиме пассивной синхронизации мод 30-40 пс,
  4. частота повторения импульсов 1-10 Гц.

.

Установка ионного утонения, полировки, очистки PECS 682

pecs-682Производитель: Gatan

Страна: США

Год выпуска (модернизации): 2009

Назначение: препарирование образцов для растровой и просвечивающей электронной микроскопии

.

.

Основные технические характеристики:

  1. Энергия ионов от 1 до 10 кэВ;
  2. плотность тока до 10 мА/см2;
  3. диаметр ионного пучка до 5 мм;
  4. скорость утонения для W 3 мкм/ч;
  5. угол наклона образца 0-90 град.

.

Наносекундный комплекс с параметрическим преобразователем света LT-2215 (PC) на базе лазера LS-2137

lt-2215-ls-2137

Производитель: СП «ЛОТИС-ТИИ»

Страна: Беларусь

Год выпуска (модернизации): 2010

Назначение: для динамической голографии

Основные технические характеристики:

  1. Длина волны генерации, нм: 266, 355, 542, 1064.
  2. Длительность импульса в режиме мод. добротности 20 нс,
  3. частота повторения импульсов 10 Гц.

.

Спектрально-аналитический комплекс на основе сканирующего конфокального микроскопа Nanofinder

nanofinderПроизводитель: СП «ЛОТИС ТИИ»

Страна: Беларусь

Год выпуска: 2011 (в 2012 г. доукомплектован оптической криогенной системой, в 2013 г. – системой вакуумирования и теплоотвода)

Назначение прибора: Спектрально-аналитический комплекс на основе сканирующего конфокального микроскопа Nanofinder обеспечивает возможность проведения рамановской спектроскопии и люминесцентного анализа с пространственным разрешением 200 нм (500 нм по глубине прозрачного образца) и спектральным разрешением 0.01 нм.

Основные технические характеристики:

Виброустойчивый стол.

Лазерный модуль: 4 лазера с автоматической коммутацией и длинами волн генерации 355 нм, 473 нм, 532 нм, 785 нм.

Оптико-механический модуль:

  1. поляризатор – призма Глан-Тейлора;
  2. анализатор – призма Глан-Тейлора с автоматическим управлением ввода-вывода в канал регистрации спектра.

Модуль сканирования:

  1. диапазон сканирования по X-Y-Z – не менее 100×100×25 мкм, соответственно;
  2. пространственное разрешение по X-Y не хуже 200 нм,
  3. пространственное разрешение по Z не хуже 500 нм

Оптический микроскоп: прямой и инвертированный, объективы: ×5, ×10, ×50, ×100, с масляной иммерсией ×100.

Спектрограф:

  1. рабочий спектральный диапазон 330 – 1100 нм,
  2. спектральное разрешение: до 0.1 нм для нарезной решетки и до 0.01 нм для Эшелле решетки,
  3. регулируемая щель: от 0 до 2 мм с шагом 0.5 мкм.

Система регистрации Рамановского и люминесцентного излучения:

  1. цифровая ПЗС-камера: температурная стабилизация до -80 °С, яркостное разрешение 16-бит,
  2. фотоэлектронный умножитель: рабочий спектральный диапазон не менее 300–900 нм, время нарастания выходного сигнала не более 2.5 нс, время отклика не более 25 нс, световая чувствительность анода не менее 2500 А/лм.

.

Автоматизированная вакуумная установка для ионно-плазменного нанесения нанокомпозитных покрытий и тонких пленок HHV Auto 500

hhv-auto-500Производитель: Hind High Vacuum Company Private Limited (HHV)

Страна: Индия

Год выпуска (модернизации): 2013

Назначение: для ионно-плазменного нанесения нанокомпозитных покрытий и тонких пленок

Основные технические характеристики

  1. вакуумная технологическая камера: диаметр 500 мм, высота 600 мм, материал камеры — нержавеющая сталь (электрополировка внутренней поверхности);
  2. система сухой (безмасляной) вакуумной откачки, обеспечивающая степень вакуума в технологической камере 5*10-7 Торр:
    сухой спиральный насос (скорость откачки не менее 35 м3/ч);
    турбомолекулярный насос (скорость откачки не менее 1500 л/с);
    измерение давления в камере широкодиапазонным вакуумметром в диапазоне 1 атм — 1х10-8 Торр.
  3. два магнетронных иcточника на постоянном и переменном токе:
    магнетронный источник с RF блоком питания (диаметр мишени 75 мм, водяное охлаждение, источник питания 600 Вт, 13.56 МГц, цифровая система управления),
    магнетронный источник с DC блоком питания (мощность 1.5 кВт, диаметр мишени 75 мм, водяное охлаждение);
  4. система напуска технологических газов: аргон, азот,
    регулировка с помощью цифровых регуляторов расхода;
  5. два резистивных испарителя;
  6. вращающийся подложкодержатель

.

Спектрофотометр Photon RT

photon-rtПроизводитель: ЭссентОптикс

Страна: Беларусь

Год выпуска (модернизации): 2013

Назначение: для измерения спектральных характеристик отражения, пропускания и оптической плотности плоских оптических деталей и покрытий в поляризованном свете

.

Основные технические характеристики

  1. Спектральный диапазон, нм: 190-3000.
  2. Спектральное разрешение, нм: 190-1000 нм (решетка 600 штр/мм) -1,8; 1000-3000 нм (решетка 300 штр/мм) -3,6.
  3. Минимальный шаг сканирования, нм: 0,5.
  4. Воспроизводимость длины волны, нм: 0,12.
  5. Источник излучения: лампа галогенная 12 В, 20 Вт; лампа дейтериевая 35 Вт.
  6. Шаг перестройки угла поворота столика: 0,1о.
  7. Шаг перестройки угла поворота фотоприемника: 0,1о.
  8. Точность установки углов поворота столика образцов: 0,05о.
  9. Угол расходимости луча: 2о.

.

Установка УИПТ-001

uipt-001Производитель: БГУ, г. Минск

Страна: Беларусь

Год выпуска: 2008

Назначение: для исследования трибологических свойств поверхностей различных материалов путем получения и последующего сохранения на цифровом носителе зависимости коэффициента трения от пути трения. Области использования прибора – трибология, физика тонких пленок, материаловедение.

Основные технические характеристики:

УИПТ обеспечивает возвратно-поступательное движение образца с заданной амплитудой и скоростью, измеряя при этом коэффициент трения между индентором и поверхностью образца.

  1. Диапазон возможных размеров образца:
    минимальный размер образца 6х4х1 мм,
    максимальный размер образца 20х35х8 мм.
  2. Характеристики индентора:
    тип индентора — сферический,
    радиус закругления индентора — от 0,75 мм до 3 мм.
  3. Диапазон параметров эксперимента:
    нагрузка на индентор — от 0,01 Н до 0,2 Н;
    скорость перемещения образца — от 0,04 мм/с до 4 мм/с,
    длина трека износа — от 5 мм до 20 мм.

.

Лазерный атомно-эмиссионный многоканальный спектрометр ЛАЭМС LSS-1

lss-1Производитель: СП «ЛОТИС ТИИ»

Страна: Беларусь

Год выпуска: 2007

.

.

Назначение: для проведения качественного, полуколичественного и количественного определения состава твердых и жидких материалов посредством анализа эмиссионных спектров плазмы возбуждаемой излучением двухимпульсного Nd:YAG-лазера

Основные технические характеристики:

  1. Длина волны излучения, нм — 1064
  2. Частота повторения импульсов, Гц – 10
  3. Длительность импульса τ, нс — 15
  4. Энергия накачки Ен, Дж 8-20
  5. Энергия лазерного импульса Еимп, мДж – 10-100
  6. Межимпульсный врем. интервал Δt, мкс – 0-100
  7. Шаг межимпульсного сдвига, мкс — 1
  8. Фокусное расстояние f, мм — 100
  9. Размер пятна фокусировки, мкм — ≈ 50
  10. Диапазон анализ. длин волн, нм – 190-800
  11. Разрешение по спектру, нм — 0,1
  12. Предельная чувствительность на содержание элементов в образце, % — 10-6 — 10-5
  13. Количество определяемых элементов — ≤ 90
  14. Время анализа, мин — 3