Cканирующий электронный микроскоп LEO — 1455 VP с приставками:
энергодисперсионный безазотный спектрометр Aztec Energy Advanced X-Max 80;
четырехсекционный детектор отраженных электронов 4QBSE;
система дифракции отраженных электронов HKL EBSD Premium System Channel 5
Производитель: LEO — 1455 VP, 4QBSE — Сarl Zeiss, Aztec Energy Advanced X-Max 80, HKL EBSD Premium System Channel 5 — Oxford Instruments.
Страна: LEO — 1455 VP, 4QBSE — Германия; Aztec Energy Advanced X-Max 80, HKL EBSD Premium System Channel 5 — Англия.
Год выпуска (модернизации): LEO – 1455 VP — 2001; 4QBSE — 2007; HKL EBSD Premium System Channel 5 — 2008; Aztec Energy Advanced X-Max 80 — 2014.
Назначение:
- LEO – 1455 VP — исследование морфологии поверхности проводящих и непроводящих материалов;
- Aztec Energy Advanced X–Max 80 — определение качественного и количественного элементного состава материалов как по всей поверхности, так и в точке или вдоль выделенной линии. Построение карт элементного состава;
- 4QBSE — получение изображения поверхности материала в фазовом контрасте;
- HKL EBSD Premium System Channel 5 — определение фазового состава, ориентации кристаллитов, состояния границ зерен.
Основные технические характеристики:
LEO – 1455 VP:
- увеличение от 32 до 300000 крат;
- разрешение в высоковакуумном режиме для проводящих образцов 3,5 нм, в низковакуумном режиме для непроводящих образцов – 5 нм;
- максимальный размер образца 100 мм.
Aztec Energy Advanced X-Max 80:
- диапазон элементов от Bе до Pu;
- пределы измеряемых концентраций 0,1-100%;
- разрешение по энергии по Mn Kα 123 эВ.
4QBSE:
- пространственное разрешение ограничено разрешением микроскопа;
- разрешение по атомному номеру лучше, чем 0,1 Z.
HKL EBSD Premium System Channel 5:
- разрешение по глубине 5 нм;
- латеральное разрешение 500 нм;
- угловое разрешение 0,11 град;
- время получения одной картины Кикучи не более 1 с;
- анализируемый диапазон симметрии кристаллов – все группы Лауэ.
Сканирующий зондовый микроскоп SOLVER P47 PRO
Страна: Россия
Год выпуска (модернизации): 2005, в 2013 г. закуплен дополнительный сканер с областью сканирования 100х100 мкм
Назначение: для исследования топографии и локальных магнитных, механических и электрических свойств поверхности материалов, включая биологические объекты
Основные технические характеристики:
Максимальный размер области сканирования – 100х100 мкм;
Размер образца до 40х40х10 мм;
Разрешение: уровень шума XY 0,2 нм, Z – 0,02 нм.
Реализованы различные методы измерений и воздействий: туннельная микроскопия, атомно-силовая микроскопия (контактная и полуконтактная), электросиловая микроскопия (статическая и динамическая), магнитносиловая микроскопия, режим измерения жесткости и латеральных сил поверхности, нанолитография, спектроскопия.
.
Рентгеновский дифрактометр ДРОН 4.13
Производитель: ОАО НПП «Буревестник»
Страна: Россия
Год выпуска (модернизации): 1992 (в 2006 г. модернизирован системой компьютерного управления).
Назначение: для исследования фазового состава и кристаллической структуры материалов, определения параметров решетки, выявления различных типов дефектов, анализа напряженного и текстурированного состояния.
Основные технические характеристики:
Диапазон углов 2 Тета от 0 до 164 град;
Скорость съемки дифрактограмм от 1/32 град/мин до 16 град/мин в Cu и Co-излучении;
Размер образца до 20 мм в диаметре;
Пакет программ по обработке полученных данных.
.
Динамический микротвердомер SHIMADZU DUH-202
Производитель: Shimadzu Corporation
Страна: Япония
Год выпуска (модернизации): 1999
Назначение: для измерения динамической твердости и микротвердости тонких пленок и покрытий.
Основные технические характеристики:
Инденторы Берковича и Виккерса;
Точность нагружения 1% от заданной нагрузки;
Точность измерения глубины 1 нм;
Величина нагрузки от 0,1 мН до 1961 мН;
Глубина индентирования до 10 мкм.
.
Фурье-спектрометр VERTEX 70
Страна: Германия
Год выпуска (модернизации): 2005
Назначение: для регистрации инфракрасных спектров различных веществ
Основные технические характеристики:
Спектральный диапазон 400-5000 см-1;
спектральное разрешение лучше, чем 0.5 см-1 (с аподизацией);
фотометрическая точность лучше, чем 0,1 %.
.
Лаборатория клеточных технологий
в составе: СО2 инкубатор HERACELL 150 THERMO; центрифуга лабораторная MULTIFUGE 1L THERMO; микроскоп OLYMPUS BX51 с манипулятором SUTTER МР-225; комплекс для микроэлектродных исследований клеток
Год выпуска (модернизации): 2007
Назначение: ведение культур клеточных линий, исследование клеток методом patch-clamp
Основные технические характеристики:
Степень очистки воздуха: не хуже 99,99% (0,3 мкм).
Инкубация: t= 5-50 oC, CO2= 0-20 %, O2= 3-90 %, Hum= 60-95 % rH.
Взвешивание: 0-1 кг, точность 0,1 мкг.
Скорость центрифугирования: 15000 оборотов.
Манипулирование: не хуже 2 мкм.
Фиксация тока: не хуже 10 мкА.
Фиксация потенциала: не хуже 1 мВ
Внутриклеточный потенциал: 0-10 кГц, 0-1 В, шум: <5 мкВ.
Внеклеточный потенциал: 0-10 кГц, 0-10 мВ, шум: <5 мкВ.
.
Лабораторный комплекс CFHF на базе рефрижератора замкнутого цикла
Страна: Англия
Год выпуска (модернизации): 2006 (в 2012 г. заменена головка криокуллера и обновлено программное обеспечение, в 2014 г. доукомплектован вибрационным магнетометром, измерительным зондом, насосом для прокачки рабочего газа)
Назначение: для автоматизированного измерения электрических свойств на постоянном и переменном токе, магнитных свойств, а также термоэдс и теплопроводности различных материалов
Основные технические характеристики:
Диапазон температур 1,6 – 300 К.
Магнитные поля до 8 Тл.
Область частот от 20 Гц до 30 МГц.
Область частот колебаний образца – 1 – 100 Гц;
Чувствительность по магнитному моменту – 10-6 эме;
Точность и воспроизводимость – 0,5 %;
Амплитуда переменного поля – до 5 мT при 10 Гц
.
Комплекс оборудования для пробоподготовки
в составе: шлифовально-полировальный станок TEGRAPOL-25; отрезной станок MINITOM; установка для электролитического утонения TENUPOL-5
Производитель: Struers A/S
Страна: Дания
Год выпуска (модернизации): 2006
Назначение: для резки, шлифовки, полировки, электролитического утонения образцов.
TEGRAPOL-25: шлифование и полировка образцов для растровой электронной микроскопии.
TENUPOL-5: электролитическое утонение материалов для просвечивающей электронной микроскопии.
MINITOM: резка образцов
Основные технические характеристики:
MINITOM: скорость отрезания 110-420 об/мин, точность 0,01 мм.
TEGRAPOL-25: скорость вращения полировального диска 40-600 об/мин, давление 10-400 Н.
TENUPOL-5: одно- и двухстороннее утонение, диаметр образца 3 мм.
.
Пикосекундный комплекс на базе лазера LS-2151
Страна: Беларусь
Год выпуска (модернизации): 2008
Назначение: для динамической голографии
.
Основные технические характеристики:
Длина волны генерации 1064, 532 нм.
Длительность импульса в режиме мод. добротности 10-15 нс,
в режиме пассивной синхронизации мод 30-40 пс,
частота повторения импульсов 1-10 Гц.
.
Установка ионного утонения, полировки, очистки PECS 682
Страна: США
Год выпуска (модернизации): 2009
Назначение: препарирование образцов для растровой и просвечивающей электронной микроскопии
.
.
Основные технические характеристики:
Энергия ионов от 1 до 10 кэВ;
плотность тока до 10 мА/см2;
диаметр ионного пучка до 5 мм;
скорость утонения для W 3 мкм/ч;
угол наклона образца 0-90 град.
.
Наносекундный комплекс с параметрическим преобразователем света LT-2215 (PC) на базе лазера LS-2137
Производитель: СП «ЛОТИС-ТИИ»
Страна: Беларусь
Год выпуска (модернизации): 2010
Назначение: для динамической голографии
Основные технические характеристики:
Длина волны генерации, нм: 266, 355, 542, 1064.
Длительность импульса в режиме мод. добротности 20 нс,
частота повторения импульсов 10 Гц.
.
Спектрально-аналитический комплекс на основе сканирующего конфокального микроскопа Nanofinder
Страна: Беларусь
Год выпуска: 2011 (в 2012 г. доукомплектован оптической криогенной системой, в 2013 г. – системой вакуумирования и теплоотвода)
Назначение прибора: Спектрально-аналитический комплекс на основе сканирующего конфокального микроскопа Nanofinder обеспечивает возможность проведения рамановской спектроскопии и люминесцентного анализа с пространственным разрешением 200 нм (500 нм по глубине прозрачного образца) и спектральным разрешением 0.01 нм.
Основные технические характеристики:
Виброустойчивый стол.
Лазерный модуль: 4 лазера с автоматической коммутацией и длинами волн генерации 355 нм, 473 нм, 532 нм, 785 нм.
Оптико-механический модуль:
поляризатор – призма Глан-Тейлора;
анализатор – призма Глан-Тейлора с автоматическим управлением ввода-вывода в канал регистрации спектра.
Модуль сканирования:
диапазон сканирования по X-Y-Z – не менее 100×100×25 мкм, соответственно;
пространственное разрешение по X-Y не хуже 200 нм,
пространственное разрешение по Z не хуже 500 нм
Оптический микроскоп: прямой и инвертированный, объективы: ×5, ×10, ×50, ×100, с масляной иммерсией ×100.
Спектрограф:
рабочий спектральный диапазон 330 – 1100 нм,
спектральное разрешение: до 0.1 нм для нарезной решетки и до 0.01 нм для Эшелле решетки,
регулируемая щель: от 0 до 2 мм с шагом 0.5 мкм.
Система регистрации Рамановского и люминесцентного излучения:
цифровая ПЗС-камера: температурная стабилизация до -80 °С, яркостное разрешение 16-бит,
фотоэлектронный умножитель: рабочий спектральный диапазон не менее 300–900 нм, время нарастания выходного сигнала не более 2.5 нс, время отклика не более 25 нс, световая чувствительность анода не менее 2500 А/лм.
.
Автоматизированная вакуумная установка для ионно-плазменного нанесения нанокомпозитных покрытий и тонких пленок HHV Auto 500
Производитель: Hind High Vacuum Company Private Limited (HHV)
Страна: Индия
Год выпуска (модернизации): 2013
Назначение: для ионно-плазменного нанесения нанокомпозитных покрытий и тонких пленок
Основные технические характеристики
вакуумная технологическая камера: диаметр 500 мм, высота 600 мм, материал камеры – нержавеющая сталь (электрополировка внутренней поверхности);
система сухой (безмасляной) вакуумной откачки, обеспечивающая степень вакуума в технологической камере 5*10-7 Торр:
сухой спиральный насос (скорость откачки не менее 35 м3/ч);
турбомолекулярный насос (скорость откачки не менее 1500 л/с);
измерение давления в камере широкодиапазонным вакуумметром в диапазоне 1 атм – 1х10-8 Торр.
два магнетронных иcточника на постоянном и переменном токе:
магнетронный источник с RF блоком питания (диаметр мишени 75 мм, водяное охлаждение, источник питания 600 Вт, 13.56 МГц, цифровая система управления),
магнетронный источник с DC блоком питания (мощность 1.5 кВт, диаметр мишени 75 мм, водяное охлаждение);
система напуска технологических газов: аргон, азот,
регулировка с помощью цифровых регуляторов расхода;
два резистивных испарителя;
вращающийся подложкодержатель
.
Спектрофотометр Photon RT
Страна: Беларусь
Год выпуска (модернизации): 2013
Назначение: для измерения спектральных характеристик отражения, пропускания и оптической плотности плоских оптических деталей и покрытий в поляризованном свете
.
Основные технические характеристики
Спектральный диапазон, нм: 190-3000.
Спектральное разрешение, нм: 190-1000 нм (решетка 600 штр/мм) -1,8; 1000-3000 нм (решетка 300 штр/мм) -3,6.
Минимальный шаг сканирования, нм: 0,5.
Воспроизводимость длины волны, нм: 0,12.
Источник излучения: лампа галогенная 12 В, 20 Вт; лампа дейтериевая 35 Вт.
Шаг перестройки угла поворота столика: 0,1о.
Шаг перестройки угла поворота фотоприемника: 0,1о.
Точность установки углов поворота столика образцов: 0,05о.
Угол расходимости луча: 2о.
.
Установка УИПТ-001
Страна: Беларусь
Год выпуска: 2008
Назначение: для исследования трибологических свойств поверхностей различных материалов путем получения и последующего сохранения на цифровом носителе зависимости коэффициента трения от пути трения. Области использования прибора – трибология, физика тонких пленок, материаловедение.
Основные технические характеристики:
УИПТ обеспечивает возвратно-поступательное движение образца с заданной амплитудой и скоростью, измеряя при этом коэффициент трения между индентором и поверхностью образца.
Диапазон возможных размеров образца:
минимальный размер образца 6х4х1 мм,
максимальный размер образца 20х35х8 мм.
Характеристики индентора:
тип индентора – сферический,
радиус закругления индентора – от 0,75 мм до 3 мм.
Диапазон параметров эксперимента:
нагрузка на индентор – от 0,01 Н до 0,2 Н;
скорость перемещения образца – от 0,04 мм/с до 4 мм/с,
длина трека износа – от 5 мм до 20 мм.
.
Лазерный атомно-эмиссионный многоканальный спектрометр ЛАЭМС LSS-1
Страна: Беларусь
Год выпуска: 2007
.
.
Назначение: для проведения качественного, полуколичественного и количественного определения состава твердых и жидких материалов посредством анализа эмиссионных спектров плазмы возбуждаемой излучением двухимпульсного Nd:YAG-лазера
Основные технические характеристики:
Длина волны излучения, нм – 1064
Частота повторения импульсов, Гц – 10
Длительность импульса τ, нс – 15
Энергия накачки Ен, Дж 8-20
Энергия лазерного импульса Еимп, мДж – 10-100
Межимпульсный врем. интервал Δt, мкс – 0-100
Шаг межимпульсного сдвига, мкс – 1
Фокусное расстояние f, мм – 100
Размер пятна фокусировки, мкм – ≈ 50
Диапазон анализ. длин волн, нм – 190-800
Разрешение по спектру, нм – 0,1
Предельная чувствительность на содержание элементов в образце, % – 10-6 – 10-5
Количество определяемых элементов – ≤ 90
Время анализа, мин – 3